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光刻技术论文
1995年，美国Princeton大学的华裔科学家――周郁，提出了纳米压印光刻技术，下面是小编整理了光刻技术论文，有兴趣的亲可以来阅读一下!
光刻技术论文篇一
激光干涉光刻技术的分析
摘 要：在微细加工和集成电路(IC )制造当中，光学光刻技术是毋庸置疑的主流技术。现在的IC集成度越来越高，这就对光刻分辨力有了更好的要求。但光刻物镜数值孔径(N A )和曝光波长( λ )在一定程度上限制光学光刻的分辨极限。作为一项新兴光刻技术的激光干涉光刻，不仅设备价格较低、结构简单，而且工作效率高、分辨率高、大视场曝光、无畸变 、焦长深等许多独特之处，分辨极限更是达到了λ/4的水平，在微细加工、大屏幕显示器、微电子和光电子器件、亚波长光栅、光子晶体和纳米图形制造等相关领域有很好的应用，极大拓展了这些领域在未来的进步空间。
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